台湾某半导体企业的废水处理工程实例_王晓云

台湾某半导体企业的废水处理工程实例王晓云1,付爱民2,李景3(1.福建工程学院环境与设备系,福建福州350007;2.志品<福州>技术工程有限公司,福建福州350015;3.台湾大学工学院,台湾台北106)摘要:根据半导体工业废水的特点,将其分为无机(氟系)废水、有机废水、酸碱废水三部分,分别采用化学混凝、MBBR反应池、中和等方式进行处理,处理后合流排出。简述了各构筑物的设备配置、设计参数等,该工程采用全过程计算机控制,自动化程度高,处理效果较好。关键词:半导体企业废水;化学混凝;MBBR反应池;中和中图分类号:X703.1文献标识码:C文章编号:1000-4602(2006)20-0073-04AProjectCaseofTreatingSemiconductorIndustryWastewaterinTaiwanWANGXiao-yun1,FUAi-min2,LeeJing3(1.Dept.ofEnvironmentandEquipment,FujianUniversityofTechnology,Fuzhou350007,China;2.CotechEngineeringFuzhouCorp.,Fuzhou350015,China;3.CollegeofEngineer-ing,TaiwanUniversity,Taibei106,China)Abstract:Accordingtothecharacteristicsofsemiconductorindustrywastewater,itcanbedividedintothreeparts:inorganic(fluorineion)wastewater,organicwastewater,acidandalkalinewastewater,whicharetreatedbychemicalcoagulation,MBBR,andneutralizationprocessesseparately,theeffluentisdischargedthroughcombinedsystem.Thelayoutanddesignparametersofstructuresareoutlined.Forusingcomputercontrolinfullprocess;ithashighautomatedlevelandbettertreatmentefficiency.Keywords:semiconductorindustrywastewater;chemicalcoagulation;MBBR;neutraliza-tion台湾某半导体企业的废水处理工程设计处理规模为1.4×104m3/d,总投资为2.5亿新台币,于2005年2月开始运行,2005年5月通过新竹监测站监测验收至今运行良好。该企业在建厂时充分考虑了废水处理要求,将半导体生产工艺流程中的废水大致分为无机(氟系)废水、有机废水、酸碱废水三部分,分别处理以达到排放标准。1设计水质、水量设计水质、水量见表1。表1设计水质、水量以及排放标准Tab.1Designinfluentquality,capacityandeffluentstandard项目水量/(m3h-1)pHCOD/(mgL-1)BOD/(mgL-1)F-/(mgL-1)PO3-4/(mgL-1)SS/(mgL-1)无机废水603～11≤400≤100≤450≤200有机废水250/3502～10≤2300≤1000≤250酸碱废水1502～11≤100≤100≤100出水标准6～9≤150≤60≤6≤1≤30注:有机废水并入TMAH(四甲基氢氧化铵,阳性型光致刻蚀剂)废水后为350m3/h。73第22卷第20期2006年10月中国给水排水CHINAWATER＆WASTEWATERVo.l22No.20Oc.t20062工艺流程废水处理工艺流程见图1。图1废水处理工艺流程Fig.1Wastewatertreatmentprocess①无机(氟系)废水处理系统采用化学沉淀/絮凝沉淀/气浮处理工艺。向含氟废水投加CaCl2形成CaF2。然后加入Ca(OH)2调整pH值,使PO3-4形成Ca3(PO4)2,再投加PAC及高分子助凝剂使其形成污泥,从而去除F-和PO3-4,沉淀池上清液排至酸碱系废水处理系统合并排放。如果SS≥200mg/L或PO3-4≥10mg/L则排到曝气池再至气浮池处理,已分离的沉淀污泥则输送至板框式污泥脱水机压制成泥饼。主要特点:采用两级化学沉淀可以有效降低出水F-和PO3-4浓度;回流污泥起到晶种的作用,通过卷扫、吸附作用除氟(提高除氟率15%～20%),同时被絮凝的Ca(OH)2立即释放出Ca2+从而降低F-浓度[1]。②有机废水处