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反渗透膜严重结垢的原因分析和对策_李中环

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文档简介:

出水电导率变化见表1。2原因分析①阻垢剂加药量不足导致结垢。RO系统所需的阻垢剂加药量由系统进水的含盐量、进水pH值、温度、系统回收率、系统出力以及膜种类等条件决定。药剂厂家专用加药软件计算出来的加药量,只能作为阻垢剂参考加药量,实际加药量可以采用烧杯试验来确定,模拟回收率75%的浓水水质,检验阻垢剂效果。取RO进水1000mL,分别按4、5、7mg/L加药量加入阻垢剂PTP0100,用电炉加热浓缩至250mL,观察水样出现沉淀情况,试验结果见表2。烧杯试验表明,该品牌阻垢剂按5mg/L加药量投加比较合适,而按药剂厂家加药软件计算的加药量只有2mg/L,显然不能满足运行要求。②停运期间的保护措施不当,是导致RO严重结垢的主要原因。RO一段进水端的端板有滑腻感和藻类气味,主要是因为停运期间3~4d低压冲洗1次,间隔时间过长,而且停运期达1个月之久,没有用保护液进行保护,导致微生物滋生。RO膜结垢之后,停运前没有及时进行化学清洗,是导致二段压差急剧增高的又一原因。3运行对策及效果①调整阻垢剂加药量。膜清洗后,RO进水按5mg/L加入阻垢剂PTP0100,为安全起见同时用盐酸调节给水pH值为6,但产水电导率达到30μS/cm,偏高。2005年5月,RO进水停止加酸,只加阻垢剂运行,运行至今,RO产水量、压差、脱盐率等参数均未发现异常,而且RO产水电导率降低到15μS/cm。②正确采取停运期间的保护措施。RO装置短期停运时间在15d以内,每24h用除盐水低压冲洗1次,防止微生物滋生;15d以上,需要用保护液进行保护,抑制微生物生长[1]。FILMTEC膜元件要求保存在1%~1.5%(wt)食品级NaHSO3溶液中,温度要求-4℃以上。笔者在运行实践中,RO停运3~4d,每24h用除盐水低压冲洗1次;2004年4月,#1RO化学清洗后停运1周,期间用1.25%(wt)食品级NaHSO3溶液保护,保护液pH值为5.5。1周后RO重新投运,各项运行参数均正常,停运保护措施达到了满意效果。这次事故使笔者认识到RO装置运行时,阻垢剂的投加量应足够,停用期间最好每24h用除盐水冲洗1次,以保证RO装置的正常运行。参考文献:[1]陈志和.电厂化学设备及系统,国产600MW超临界火力发电机组技术丛书[M].北京:中国电力出版社,2006.作者简介:李中环(1970-),男,河南灵宝人,工程师,主要从事火力发电厂化学运行管理工作,(电话)0371-62942507(电子信箱)zhhli@cr-dengfeng.com。表2阻垢剂加药量试验结果阻垢剂加药量/(mg·L-1)457沉淀析出情况大量白色沉淀无无表1RO膜元件出水电导率膜元件电导率/(μS·cm-1)膜元件电导率/(μS·cm-1)清洗前清洗后清洗前清洗后一段#17.119.6一段#68.520.9一段#28.119.7二段#185.7135.1一段#38.318.7二段#271.597.0一段#49.021.9二段#378.791.3一段#510.219.5注:清洗前RO进水未加酸,清洗后RO进水加盐酸。李中环:反渗透膜严重结垢的原因分析和对策·水处理专利·!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!专利名称:杀菌过滤装置申请号:200420090561摘要:一种杀菌过滤装置包括筒体,所述筒体上设有进水口和出水口,在所述筒体内设有滤芯,其中,在所述筒体的两端面上设有照射室,所述照射室与筒体的内部之间隔有透明隔离层,在所述照射室内设置有紫外灯;本实用新型与已有技术相对照,将杀菌用的紫外照射装置和过滤装置集成在一起,大大减小了杀菌过滤装置的体积,使用方便可靠。专利名称:一种光触媒水处理装置申请号:200420047761摘要:本实用新型涉及一种光触媒水处理装置,包含:基材体,具大表面积而设置于面向光源侧;及光触媒材料层,位于基材体表面上,光触媒材料层可为二氧化钛光触媒材料层,所述面向光源侧设置于水容器或储水池的面向光源处并接触水,基材体具有翻转功能而可以更换基材体的面光部位。本实用新型可用于工业、商业、及住宅家用的储水容器等,其设置方便,成本低廉、品质高。·69·

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