曝光工艺流程示意图

显影（显影机）蚀刻（蚀刻机）后烘烤剥膜（脱膜机）检查镀ITO导电膜(镀膜机）光阻涂布（涂布机）来料烘烤曝光玻璃盖板CoverLens镀ITO导电膜(镀膜机）8486302200制造平板显示器用物理气相沉积装置在来料玻璃盖板表面镀一层ITO导电膜(氧化铟锡)用于导电，如图中黄色示意部分真空镀膜机玻璃盖板CoverLens镀膜镀膜在镀过ITO(氧化铟锡)的玻璃表面均匀涂布一层感光光阻材料(PR,如图中蓝色示意部分)，然后再进行烘烤涂布机光阻涂布（涂布机）镀完ITO导电膜产品涂布涂布8486303900其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置(制造平板显示器用的机器或装置)将掩膜版上的电路图图案，投影到涂布在ITO玻璃表面的感光光阻(PR)上曝光机UV灯掩膜版曝光产品曝光曝光感光光阻涂布后产品UV光透过掩膜版，照射到曝光产品的感光光阻表面，掩膜版上透明的部分，UV光可以透过并照射到感光光阻上，使光阻产生反应。掩膜版上黑色不透明的部分，UV光无法透过，故此部分的光阻不产生反应。从而使掩膜版上的电路图图案，投影到涂布在ITO玻璃表面的感光光阻(PR)上。UV灯掩膜版固定位置曝光产品固定位置UV灯掩膜版曝光产品曝光曝光被照射部分8486304900其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将显影液喷淋到曝光后的产品表面，显影液会将被UV光照射发生反应的感光光阻溶解掉，从产品表面去除，留下未被UV光照射的部分，保留在产品表面显影机显影显影显影（显影机）曝光后产品被曝光部分未被曝光部分蚀刻蚀刻蚀刻（蚀刻机）8486304900其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将蚀刻液喷淋到显影后的产品表面，蚀刻液会将未被感光光阻PR覆盖部分的ITO蚀刻掉，留下被感光光阻PR覆盖保护的部分，保留在产品表面蚀刻机显影后产品未被曝光部分