硫酸盐还原菌净化含铬电镀废水的中试研究

三一technology硫酸盐还原菌净化含铬电镀废水的中试研究张介驰田小于德永牵守路彭万觫———～‘嚣龙江宥科学琬应用徽生糟所，暗尔藏)斛磊×／’(齐齐哈Ij；蠢n两荠暗尔)(呛尔藏轴承’广尔摈)本文研究7硫醚盐还原菌在还原荆的参与下净化含咎电镀废水中间试验的I艺条件，通过净化措施，使废水中Cr含量由30~40mg／L，下降为0．img／L以下，达到j废水排放标准。去除率为99．67~99．97分批净化电镀座水103t．试验证明座,f-净化工艺具有良好的技性。而且消除了二次污染。，．．煺词娑＆舭问雌金目前黑龙江省一些电镀工厂采用化学絮7．废水净化池；1m容积，哈轴承厂加凝剂，将壤水中c一形成crOi盐沉淀。沉工。淀物中的铬仍以Cr的形式存在，不仅具有8．板框压滤机；杭州良清压滤机厂。⋯⋯⋯’⋯、‘。’。⋯⋯”⋯nlI^⋯Jm中cr“含量亦难于达到排放标准。我们在实1．含动电机将废水由大储池中泵入净验室工作基础上，于96年l1月在哈尔滨轴化池，分别加入还原剂、菌液，调pH，废水中得了满意的结果，现将中试研究报告如下。淀，通过板框压滤机排敢净化废水，沉淀物已材料和方法消除污染作用，可作为工业垃圾弃掉·5．氢氧化钠：市售工业品6．化学沉淀法含铬疲永处理机：哈尔滨市先锋环保设备厂生产，只起抽注废水作用．FeSO。溶液，分装于3个大塑料桶中。按z接种量接入硫酸盐还原菌．30'C厌氧培养9d．上面自然形成复盖层，隔绝空气．有利于·索北农韭大学生物工程景毕业宴习生啦{毫日期-1896年l1片l2厌氧细菌生长．在净化舍铬电饿废水中。使用这种硫酸盐还原菌苗液，具有很好的吸附絮凝作用，将用还原荆还原的cr”很快沉淀下维普资讯http://www.cqvip.com张介驰等：硫酸盐还原苗净化含铬电镀废求的中试研究33来．使废水得到净化．二、净化含铬电镀废水工艺流程图硫酸盐还原菌净化含铬电镀废水工艺流程见图1。苗髓迁原剂囹一化沉蓰精弃掉囝l净化含铬电镀废水工艺流程兰、cr．的还原与吸附絮凝还原六价铬化学反应式H2C2Ot+6MS0‘+6HSO{一Cr：(SO．)a+3M2(SO．)a+7H!O上述反应在碱性条件下，发生下述反应：C(SO．)3+6NaOH；2Cr(OH)3{÷3Na2SO．产生的胶体cr(OH)：有很缓慢的沉降速度，但在具有负电荷的并有很好吸附絮凝作用的硫酸盐还原菌的参与下，很快与带正电的cr(0H)形成较大茁胶团而沉淀。以上反应过程在不开启过滤机情况下，亦可在3O分钟内形成完全沉淀。四、还原剂用量对废水净化效果的影响在净化含铬电镀废水工艺中，前期加入0．02的还原剂，菌液量按0．1加入，经化验cr．未检出，去除率达到100，具有非常好的净化效果。后期为了降低处理废水成本．将还原荆用量降低为0．015，菌积量仍拄0—1加入，净化水中cr含量为0．01～0一lmg／1．．仍近低于排放标准(0．3mg／k)．去绦率可达到99．97～99．67％。上海钟厂与上悔第二工业大学合作．还原剂的用量同Cr的比为20：1，为化学反应理论值用量的7倍，但未报道净化后的化验结果。我们使用的还原剂用量同c一的比为61～4：1，仅稍高于化学反应理论值用量或为理论值的2倍。这可以认为是硫酸盐还原菌的吸附和絮凝作用所产生的结果。五、净化含铬电镀废水工艺的稳定性中试期间，采用分批式处理含铬废水，每批处理h废水，共处理103r每10t净化水取样迭黑龙江省环境监溯中心站化验，结果详见表1。表1净化废水工艺的稳定性单位-mg／L处处理后处处理后扯处理后处处理后处处理后理理理理理雷tfr前_Cr‘+26．10．O0232．O5O．00210．00231．13饥O19仉00531．5O0．13635O0．0B1OO6B总悟3950．0l0．1153Z．6-$0．01l0．0131．6-$0．0540．Ol327B仉05lO．15134．950．083OO93Cr什标准，0．3，击除率99．97～99-67．尊悟标准1．5。击除辜99．97～99．54．从表1结果看出，净化含铬废水工艺是可行的，净化水中cr”和总铬鼓值不仅低于排放标准．而且具有很好的去除率．分别接近100的去除效果．这种净化水不仅可以排放，还可作为循环水使用]。总观处理效果，各批次数值几乎无差异．试验结果证明，我们采用的净化含铬废水工艺具有良好的稳定性。参考文献I-1]上海忡厂；上格工业废水冶理最佳骞甩技术，上{I科学昔丑出艟杜-{86～490-1992[2]蒋晨■等壕著t环境工程苴利，请华大学出版社-334．1991鞫水一成一铬一分～维普资讯http://www.cqvip.com生物技术7雹1朋Thern⋯iln．tplantstudyOnpurificationofelectroplatingwaste