台湾某半导体企业的废水处理工程实例

第22卷第20期2006年10月中国给水排水CHINAWATER&WASTEWATERVo1．22No．200ct．20o6△峦口／某半导体企业的废水处理工程实例王晓云，付爱民，李景(1．福建工程学院环境与设备系，福建福州350007；2．志品<福州>技术工程有限公司．福建福州350015；3．台湾大学工学院，台湾台北106)摘要：根据半导体工业废水的特点，将其分为无机(氟系)废水、有机废水、酸碱废水三部分，分别采用化学混凝、MBBR反应池、中和等方式进行处理，处理后合流排出。简述了各构筑物的设备配置、设计参数等，该工程采用全过程计算机控制，自动化程度高，处理效果较好。关键词：半导体企业废水；化学混凝；MBBR反应池；中和中图分类号：X703．1文献标识码：C文章编号：1000—4602(2006)20—0073—04AProjectCaseofTreatingSemiconductorIndustryWastewaterinTaiwanWANGXiao—yun。。FUAi—min，LeeJing(1．Dept．ofEnvironmentandEquipment，FufianUniversityofTechnology，Fuzhou350007，China：2．CotechEngineeringFu~ho1xCorp．，Fuzhou350015，China；3．CollegeofEngineering，TaiwanUniversity，Taibei106，China)Abstract：Accordingtothecharacteristicsofsemiconductorindustrywastewater，itcanbedividedintothreeparts：inorganic(fluorineion)wastewater，organicwastewater，acidandalkalinewastewater，whicharetreatedbychemicalcoagulation，MBBR，andneutralizationprocessesseparately，theefluentisdischargedthroughcombinedsystem．Thelayoutanddesignparametersofstructuresareoutlined．Forusingcomputercontrolinfullprocess；ithashighautomatedlevelandbettertreatmenteficiency．Keywords：semiconductorindustrywastewater；chemicalcoagulation；MBBR；neutraliza—tion台湾某半导体企业的废水处理工程设计处理规模为1．4×10m／d，总投资为2．5亿新台币，于2005年2月开始运行，2005年5月通过新竹监测站监测验收至今运行良好。该企业在建厂时充分考虑了废水处理要求，将半导体生产工艺流程中的废水大致分为无机(氟系)废水、有机废水、酸碱废水三部分，分别处理以达到排放标准。1设计水质、水量设计水质、水量见表1。表1设计水质、水量以及排放标准Tab．1Designinfluentquality，capacityandefluentstandard水量／C0D／B0D／一7PO；一／SS／项目(in-pH【mg。【mg。【mg‘【mg‘【mg。h)L一’1L-。1L-。1L-。1L-。1无机废水603～11≤400≤10o≤450≤20O有机废水250／3502～10≤2300≤10o0≤250酸碱废水1502～1l≤10o≤10o≤10o出水标准6～9≤150≤60≤6≤1≤30注：有机废水并入TMAH(四甲基氢氧化铵，阳性型光致刻蚀剂)废水后为350m3／h。·73·维普资讯http://www.cqvip.com第20期中国给水排水第22卷2工艺流程废水处理工艺流程见图1。CaC1zPAC、Ca(0H)z高分子药剂无机废水—集水池反应池1卜一_叫反应池2卜_絮凝池卜_沉淀池有机废水—集水池浓缩池酸碱废水—集水池卜中和池1卜一气浮池卜_中和池2卜_排放池卜-达标排放紧急储水池2图1废水处理工艺流程Fig．1Wastewatertreatmentprocess①无机(氟系)废水处理系统采用化学沉淀／絮凝沉淀／气浮处理工艺。向含氟废水投加CaC1形成CaF。然后加入Ca(OH)调整pH值，使po3一形成Ca(PO)，再投加PAC及高分子助凝剂使其形成污泥，从而去除F一和PO一，沉淀池上清液排至酸碱系废水处理系统合并{j}放。如果SSI>200mg／L或P0i一≥10mg／L贝0{j}到曝气池再至气浮池处理，已分离