Actiflo_工艺技术应用于硅片研磨废水处理

净水技术2013，32(2)：36—38，56WaterPurificationTechnologyActiflo~m艺技术应用于硅片研磨废水处理王永健(威立雅水处理技术(上海)有限公司，上海200001)摘要考虑到硅片研磨废水浊度高、悬浮固体粒径小及难于沉淀的水质特点，并依据处理水量的增加和后期回用的要求，采用Actiflo嗷砂压载絮凝工艺对现有的混凝沉淀处理装置进行升级改造。改造后处理能力由原来不到加mVh提高到4omVh，表明Actiflo~砂压载絮凝工艺对难处理的高浊度硅片研磨废水具有稳定且良好的处理效果。进水浊度平均值为2120NTU，装置处理后出水浊度小于10NTU，浊度去除率高达99％以上。关键词研磨废水Actino高效沉淀池压载絮凝微砂循环中图分类号：X703．1文献标识码：B文章编号：1009-0177(2013)02—0036—04ApplicationofActiflo~TechnologicalProcessesinSiliconWaferGrindingWastewaterTreatmentWangYongjian(VeoliaWaterSolution&Technology,删200001，China)AbstractConsideringthesiliconwafergrindingwastewaterwithhighturbidity，smallsuspendedsolids，dificultlyprecipitating，theexpansionfortreatmentcapacityandfuturereuserequirement，theadvancedAetiflo。micro-sandballastfloceulationprocesswasappliedtoupgradetheexistinggrindingwastewatertreatmentunitwhichusedconventionalcoagulationandsedimentationprocesses．Aftertheupgrading．thetreatmentcapacitywasincreasedfrom20to40m3／h．TheresultsshowthatActitlo。micro-sandballastnoc—culationprocesshasagoodandstableeffectontreatingsiliconwafergrindingwastewaterwithhighturbidity．111eturbidityofefluentislessthan10NTUwhenaverageturbidityofinfluentiSupto2120NTU．Theremovalrateofturbidityismorethan99％．KeywordsgrindingwastewaterAetiflo。high-eficiencysedimentationtankballastflocculationmicro-sandrecircula-tion在硅片的切割研磨生产过程中，会产生大量的高浊度废水，这种废水浊度非常高、颗粒细小、在水中稳定、极难沉淀。不过由于有机物及其他污染物含量少，该种废水可以成为很好的回用水水源。目前常用的处理工艺有传统混凝沉淀和超滤膜过滤[1--4]。但是，传统混凝沉淀工艺药剂投加量大，沉淀面积要求大，处理效果不佳。超滤膜过滤工艺存在很多问题，如膜容易堵塞、反洗频率高、水的回收率小、超滤膜的更换成本昂贵。苏州工业园区某半导体企业产生的废水主要来源于硅片切割研磨生产线。该股研磨废水平均流量约35mS／h，COD一般不大于15mg／L，平均浊度约2000NTU，最高可达3000NTU以上。该企业先【收稿日期】2012～10—16【作者简介】王永健(1979一)，男，工程师，工学硕士，研究方向为工业废水处理工艺及解决方案。电话：021—63913288135；E-mail：kevin．wang@veoliawater．tom。一36一后采用传统混凝沉淀和超滤膜过滤工艺进行研磨废水的处理，但没能得到良好的处理效果。随着企业产能的增加以及工业园区对水回用的要求，Actiflo~微砂压载絮凝工艺被应用于原研磨废水处理设施的升级改造。1Actiflo~砂压载絮凝工艺Act讯o@工艺是一种集合了微砂压载絮凝和斜管澄清两种技术于一体的高速沉淀工艺15-7]，该技术大大加快了沉淀速度并减少了絮凝时间[81。Actiflo@工艺流程及原理如图1、图2所示。废水需经过细格栅拦截去除大的颗粒及杂质后进人Actiflo@澄清池，防止堵塞后续处理设备。化学混凝剂(一般为铝盐或铁盐)在废水进入混凝区前被投加到废水中。被