聚偏氟乙烯(PVDF)膜反应器除去垃圾渗滤液中氨氮的应用
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2020-04-09 14:19:44
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化学工程师ChemicalEngineer2018年第05期鄢境:互:程DOI:10.16247~.cnki.23—1171hq.20180542聚偏氟乙烯(PVDF)膜反应器除去垃圾渗滤液中氨氮的应用陈煜南,付赵跃(浙江伟明环保股份有限公司。浙江温州325000l摘要:利用自行制备的聚偏氟乙烯(PVDF)~对称膜以扫流式平板膜接触系统(Membranecotactor)处理含高NH-N的垃圾渗滤液废水。讨论了不同孔隙度的PVDF膜与吸收液流速对垃圾渗滤液中NH,一N去除的影响。实验结果显示,非对称膜的孔隙度随PVDF的浓度降低而增加,可提高NH一N的去除效率,12%PVDF获得最佳NH,一N除去效果,除去率达78.2%。进料流体处于湍流状态,有利于溶液传质,减少浓度极化现象而增加NH,一N去除效果。关键词:薄膜接触;氨氮去除;PVDF中图分类号:X703.1文献标识码:ARemovalammonianitrogenfromlandfillleachatebyPVDFmembranecontactorprocessCHENYu—nan,FUZhao-yue(ZhejiangWeimingEnvironmentProtectionCo.,Ltd.,Wenzhou325000,China)Abstract:Polyvinylidenefluoride(PVDF)membmneswithasymmetricstructuresandgoodhydrophobicityhadbeenpreparedbyaphase—inversionmethodandappliedforremovalofammonianitrogenfromlandfillleachatebymembranecontactor.TheeffectoftheflowvelocityofabsorptivefluidanddifferentporosityofPVDFmembranesOiltheremovalofammonianitrogeninlandfillleachatewasdiscussed.TheresultsshowedthattheporosityofasymmetricmembranewasincreasedwiththedecreaseofPVDFconcentration,andtheremovaleficiencyofam—monianitrogencouldbeimproved.Thebestremovaleficiencyofammonianitrogenwasobtainedby12%PVDF,rateupto78.2%.Thefeedfluidwasinaturbulentstate.whichisbeneficialtothemasstransferofthesolution.re-ducingtheconcentrationpolarizationandincreasingtheeffectofammonianitrogenremova1.Keywords:membranecontactor,ammoniumremoval;polyvinylidenefluoride(PVDF)废水中NH,一N在硝化过程会消耗水中溶氧,造成水质恶化。在工业界广泛的作为清洗剂,例如:印刷电路板的清洗;养殖及生活废水亦产生NH,一N废水,未经妥善处理的含氨废水将会造成许多环境问题『I1,如导致水体优养化,水中NH一N无机盐类经过硝化作用而产生亚硝酸盐,进而危害水中的生物等问题,也因此进而发展多种去除水中氨氮的各类技术,如生物折点加氯法、生物硝化脱氮法、选择性离子交换法、薄膜过滤法等。印刷电路板工厂制作过程中排放出的高浓度NH一N废水,以折点加氯法为简便的除氨方法,在废水当中加入氧化剂使的氧化成氯铵后,再氧化分解成N气体而达脱除的目的,但由于加入大量含氯氧化物而成本过高。生物硝化脱氮方法已被广泛用收稿日期:2018-03—26作者简介:陈煜南(1981一),男,本科,助理工程师,主要研究方向:垃圾渗滤液处理与资源化回收利用。于减少污水中的NH,一N含量【2】,使出水到达工业区排放标准,但此过程受限于缓慢的生物转化和土地需求大等因素。氯化法和离子交换法也被应用于含有高浓度NH,一N的工业废水1剖,但也同样有处理成本过高的情况。近几年来膜过滤系统为人们所广泛使用的分离技术之一,特别是用在分离及纯化方面。薄膜接触系统在工业上被广泛的使用,不管是分离过程还是萃取过程,都可以有效的运用薄膜来达到纯化的效果【引。膜接触系统处理含NH,一N废水的原理为:疏水性微孔膜(聚丙烯、聚四氟乙烯、聚偏氟乙烯1把含氨氮废水和酸吸收液分隔于膜两侧,在碱性条件下,使废水中离子态的NH
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