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CN201820039975.9-一种一体化电镀污水处理设备-公开号207792899U

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文档简介:

CN201820039975.9-一种一体化电镀污水处理设备-公开号207792899U(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)实用新型专利(10)授权公告号(45)授权公告日(21)申请号201820039975.9(22)申请日2018.01.10(73)专利权人武汉春儒科技有限公司地址430000湖北省武汉市经济技术开发区12C2地块武汉经开万达广场B区S5-1栋3层B1-22室(72)发明人赵晓来(74)专利代理机构成都顶峰专利事务所(普通合伙)51224代理人杨军(51)Int.Cl.C02F9/04(2006.01)C02F101/16(2006.01)(54)实用新型名称一种一体化电镀污水处理设备(57)摘要本实用新型涉及污水处理设备的技术领域,公开了一体化电镀污水处理设备,包括设备本体内部的铬还原池、混凝反应池、沉淀池、中间水池以及清水池;所述铬还原池的上部与混凝反应池的下部通过第一管道连通,且铬还原池和混凝反应池分别设有液体搅拌器;所述混凝反应池的上部设有与沉淀池连通的第二管道,且第二管道的端部设有分散器;所述分散器的下方设有圆弧形壳体,其上方设有呈漏斗状的溢流堰;所述沉淀池的下部设有锥形槽,锥形槽设有与其连通的沉泥筒,沉泥筒内密封转动连接有螺旋杆且螺旋杆配设有动力装置;所述溢流堰的底部通过第三管道与中间水池连通,改善了污水处理设备对于污水净化不彻底、内部易堵塞以及沉淀效率较低的问题。权利要求书1页说明书4页附图2页CN207792899U2018.08.31CN207792899U1.一种一体化电镀污水处理设备,包括设备本体,其特征在于,所述设备本体内设有经多个挡板分隔而成的铬还原池、混凝反应池、沉淀池、中间水池以及清水池;所述铬还原池的上部与混凝反应池的下部之间通过第一管道连通,且铬还原池和混凝反应池的上方分别设有伸入其内部的液体搅拌器;所述混凝反应池的上部设有与所述沉淀池连通的第二管道,且第二管道的端部设有分散器;所述分散器的下方设有圆弧形壳体且圆弧形壳体的周围边缘与所述沉淀池的内壁之间连接有多个连接杆,其上方设有呈漏斗状的溢流堰;所述沉淀池的下部设有锥形槽,锥形槽的底部设有与其连通的沉泥筒且沉泥筒的底部设有排泥管道,沉泥筒内密封转动连接有螺旋杆且螺旋杆配设有驱动其转动的动力装置;所述溢流堰的底部通过第三管道与所述中间水池的内部连通,中间

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