氧化沟工艺在电子工业园区污水处理厂中的应用

氧化沟工艺在电子工业园区污水处理厂中的应用氧化淘工艺在$_--3-=t囤巨污水处理广呻的应用李国炜(中国市政T程中南设计研究总院重庆分院，重庆400047)摘要重庆市西永微电子工业园区污水处理厂近期建设规模为3万m3／d，以处理微电子工业园区内的工业废水为主要任务。污水处理主体工艺采用强化预处理+奥贝尔(OrbaD氧化沟工艺。详细介绍了其工艺流程、主要构筑物的特点及设计参数，并总结了微电子工业园区污水处理厂设计特点。关键词工业园区污水处理厂奥贝尔氧化沟工艺流程重金属区污票塞妻孕主拿言秉轰凿旱进水—叵圃乎屯垦卜雹巫丑吨蔓蛩—《茎薹》吐霹产霉梁滩河T业园区北部、梁滩河东岸踏水ii鹭怒辩笔3裂：蒲．目L⋯三=========囱6／d二期扩建为万甜，远期规～””一——模为20万m3／d。厂区近期占图1丁艺流程地为6．83h群，近、远期总规划用地面积为18．51h砰，主要服务范围为重庆市西永微电子丁业园、西永综合保税区、台资工业园区及西永组团城市副中心区，服务区域面积约60k砰。目前服务区内已经相继进驻了多家国际知名的大型微电子企业。污水处理厂进水约80％为工业废水，其设计进、出水水质见表1。表1设计进出水水质BoD5CODc，SSNH3一NTNTP指标／mg／L／mg／i．／mg／L／mg／I，／mg／L／mg／l，迸水10050040030407出水20602015201污水处理厂生化部分采用了奥贝尔(Orbal)氧化沟工艺，该工艺具有很强的抗冲击负荷能力，不仅运行稳定处理效果良好，而且具有较好的除磷脱氮功能。其丁艺流程见图1。2主要构筑物设计参数2．1粗格栅间及进水泵房本丁程粗格栅间与进水泵房合建，土建按照6万m3／d规模建设，平面尺寸为18．5m×14．7m，高度为14．35m，粗格栅间设2道自动除渣的回转式格栅除污机，单台B—1．5m，b=20mm，H一11ITI。考虑到本工程工业污水流量变化较大，采用大小泵搭配的运行方案以便于运行管理。进水泵房设备分期安装，一期工程选用4台水泵(2大，2小)。单台大泵流量Q一7501213／h，扬程H一18m，电机功率P=55kW，单台小泵流量Q一500m3／h，扬程H一18m，电机功率P一37kW。二期工程拟增加同型号2台大泵，形成总4用2备。％}一糌=o．0547(≤o．10)，合理，属小阻力配水。署一篑一1．1．4036_．